РОСНАНО инвестирует 40 млн евро в передовое производство микросхем

РОСНАНО и Mapper Lithography, голландская компания-разработчик систем безмасочной литографии, объявили о начале инвестиций в производство инновационного литографического оборудования. Общая сумма сделки составляет 80 млн евро, доля РОСНАНО — 40 млн евро. Такую же сумму вкладывают акционеры Mapper, — инвестиционные компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и DEMCON, ряд частных инвесторов и семейных инвестиционных фондов, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций. Существенная часть инвестиций РОСНАНО будет направлена на создание в России производства ключевого компонента литографических систем Mapper.

Компания Mapper Lithography, основанная в Делфтском техническом университете, разрабатывает литографическое оборудование нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam), позволяющей обойтись без дорогостоящих литографических масок. Технология Mapper сочетает ранее практически недостижимую разрешающую способность (22 нм и выше) с высокой производительностью, позволяя обрабатывать до 100 кремниевых подложек в час.

Инвестиции позволят компании Mapper выпустить несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, намеченная к выпуску в 2012 году, использует более 1300 электронных лучей и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13 260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластерная система Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, способна обрабатывать 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности Mapper будут расширены до 20 литографических машин в год.

В России планируется создать предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) — ключевого компонента оборудования Mapper. Производство требует использования уникальных технологий в области МЭМС. Мощность российского предприятия составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами. Проект ориентирован на сотрудничество с ведущими российскими профильными исследовательскими институтами.

Для продвижения безмасочной литографии на базе платформы Mapper развернута международная производственно-исследовательская программа IMAGINE, которую координирует ведущий мировой институт по прикладным исследованиям в микроэлектронике CEA-Leti. Основными участниками являются крупные производители микроэлектроники — TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В середине 2009 года в чистых комнатах CEA-Leti был установлен промышленный прототип установки Mapper.

В начале 2012 года в рамках программы IMAGINE компания Mapper достигла размерности элементов 22 нм, что соответствует следующим технологическим стандартам в микроэлектронике — 14 нм и 10 нм. В этом году CEA-Leti и Mapper объявили о продлении программы IMAGINE на три года. В течение этого времени в CEA-Leti будет установлено опытное оборудование Matrix, на котором ведущие мировые производители микроэлектроники смогут опробовать безмасочную технологию в реальной производственной обстановке.

Как сообщается в пресс-релизе, создание чипа на кремниевой подложке в безмасочной литографии можно сравнить с формированием картинки на экране электронно-лучевой телевизионной трубки. Картинка формируется когда луч, который быстро обегает телевизионный экран, попадает на светящееся вещество — люминофор. В оборудовании Mapper вместо видимой картинки электронный луч оставляет следы в фоточувствительном слое на поверхности кремниевой подложки.